학술행사안내

All For System은 RF 및 Plasma 원천 기술을 가진 업체에서RF Module과 Plasma System을 설계 및 제작 했을 뿐만 아니라 개발에도 참여한 엔지니어가 설립한 회사입니다.
Vacuum(진공) 또는 Plasma(플라즈마) System 및 실험용 장비들을 고객이 원하는
Concept을 최대한 반영하여 제작 가능한 기업입니다.

제작하는 Item:
1. Plasma System
1) 제품군
- Deposition (Coating): PECVD, RF/DC Sputter
- Etcher
- Asher
- Plasma Surface Treatment System
- Plasma Polymerization System
- 초소수성 처리 장비
=> Gas 및 Plasma를 적용하지 않는 Vacuum 장비
- 다기능 Plasma 처리 장비
=> PE(CCP) & RIE(CCP) & Plasma Polymerization System
=> Surface Treatment, PR Ashing(Metal Mask PR은 적용 제외), Polymerization,
Etching 가능
- 기타 실험실용 장비
2) 제품 특징
- 2~8 inch wafer type applicable
- Plasma uniformity < ± 5%
- Manual or PLC-based automation or PC automation applicable
- 고객의 Concept에 맞게 설계 및 제작 가능
3) 응용분야:
- Plasma Surface Treatment
- Semiconductor Process
- Plasma Polymerization
- Nano Application
- Solar Cell
- MEMS
- LED
- Bio

취급하는 Item
1. 산소분석기(농도계)
- Furnace, RTP, Reactive Sputter, 등에 적용
- Process 진행시 산소와 관련된 장비에 적용되며 반도체 뿐만 아니라
산업용으로도 사용
2. RF(13.56MHz)를 적용하는 대기압(상압) Plasma System:
- 2 차원(평면) 표면 처리 장비: 친수성, 소수성, Cleaning: Sample Test 가능
- 2 차원(평면) 표면 처리 장비: 초소수성
- 나노 분말 표면 처리 장비 (세계 최초): 2010년 1월 부터 Sample Test 가능

홈페이지는 제작 중으로 E-mail 또는 전화를 주시면 상담해 드리겠습니다.

All For System
팀장 송웅섭
주소: 대전광역시 유성구 탑립동 852-1
Tel : 042-933-2514
Fax: 042-933-9038
E-mail : ALLFORSYSTEM@gmail.com