New Plasma System È«º¸ ±ÛÀÔ´Ï´Ù.
¿ÃÆ÷½Ã½ºÅÛÀº ¿¬±¸¿ë(R&D) Plasma System¸¦ °³¹ß Á¦ÀÛ ±â¾÷ÀÔ´Ï´Ù.
ÀÏ¹Ý Áø°ø Àåºñ Á¦ÀÛ ¾÷ü¿Í ´Þ¸®
¹ÝµµÃ¼ ¾ç»ê¿ë Ashing SystemÀ» Á¦ÀÛÇÏ´Â Global ¾÷ü¿¡°Ô Plasma Source ModuleÀ»
²ÙÁØÈ÷ °ø±ÞÀ» ÇÏ°í ÀÖ½À´Ï´Ù.
ÀϹÝÀûÀÎ Áø°ø Àåºñ¿¦Ã¼´Â Áø°ø °ü·Ã ¸ðµç Àåºñ¿Í RF Plasma¸¦ »ç¿ëÇÏ´Â Àåºñ Áß¿¡¼ PVD SystemÀ» ÁÖ·ÂÀ¸·Î Á¦ÀÛÇÏÁö¸¸
¿ÃÆ÷½Ã½ºÅÛÀº PVD System º¸´Ù RF Plasma¸¦ ÀÌ¿ëÇÏ´Â ICP, CVD, RIE, Ashing, Surface Treatment, Polymerization SystemÀ» ÁÖ·ÂÀ¸·Î °³¹ß Á¦ÀÛÇÏ°í ÀÖ½À´Ï´Ù.
ȨÆäÀÌÁö¿¡ º¸½Ã¸é Àåºñ °ü·Ã ÀÚ·á, ¾÷°èµ¿Çâ, ÀϹÝÀûÀÎ ÇöóÁ ÀÚ·á, µîÀÇ ÀÚ·á°¡ °Ô½ÃµÇ¾î ÀÖ½À´Ï´Ù.
¹®ÀÇ»çÇ×ÀÌ ÀÖÀ¸½Ã¸é ¾ðÁ¦µçÁö ¿¬¶ôÁÖ¼¼¿ä!
Áñ°Å¿î ÇÏ·ç º¸³»¼¼¿ä!